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华虹宏力“沟槽栅的制造方法”专利获授权

2025-01-20
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上海华虹宏力半导体制造有限公司近日获得一项关于“沟槽栅制造方法”的专利授权(授权公告号:cn114220734b,授权公告日:2025年12月10日,申请日:2025年12月13日),天眼查信息显示。

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华虹宏力“沟槽栅的制造方法”专利获授权

该专利技术公开了一种改进的沟槽栅制造方法,具体步骤如下:首先,在半导体衬底表面刻蚀形成沟槽;然后,形成第一氧化层,确保沟槽顶部开口;接下来,沉积第二介质层,封闭沟槽顶部开口并在沟槽内形成一个被第二介质层包围的空腔;随后,对第二介质层进行第一次刻蚀,去除空腔外露部分,同时保留空腔顶部封口处的第二介质层;然后,以空腔周侧的第二介质层为掩膜,对第一氧化层进行第二次刻蚀,形成栅极底部氧化层;之后,去除第二介质层;最后,生长栅氧化层。此方法简化了BTO的形成工艺,有效降低了生产成本。

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