北方华创微电子装备有限公司近日公布一项名为“晶舟及半导体工艺设备”的新专利（申请公布号：cn118866781a，申请公布日：2025年10月29日）。该专利技术旨在提升半导体工艺中晶片镀膜厚度的均匀性。

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专利技术方案的核心在于一种新型晶舟设计。该晶舟由多个平行等距排列的舟片组成，这些舟片被划分为相互绝缘的多个片区。每个片区内的舟片都设有连接孔，可与射频调节组件连接。不同片区的舟片通过不同的射频调节部件与射频源连接，并确保相邻舟片的电极极性相反。这种设计能够有效提高单次工艺中多个晶片的镀膜厚度一致性，从而提升生产效率和产品质量。

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以上就是北方华创“晶舟及半导体工艺设备”专利公布的详细内容，更多请关注其它相关文章！

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